Novel Patterning Technologies for Semiconductors, MEMS/NEMS and MOEMS 2019

Expiré
Dates : 24 février 2019 » 28 février 2019
Lieu : San Jose, California
États-Unis

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Organisateur :
Domaine : Sciences de l'ingénieur; 0
Physique; Sciences de l'ingénieur;
Mots-clé:: Semiconductors, Manufacturing
Description :

The Novel Patterning conference showcases novel lithography and patterning techniques that provide solutions for semiconductor IC nodes, wafer-level packaging, and non-IC related technologies such as MEMS/NEMS, MOEMS, displays, photonics, metamaterials, and micro/nanofluidics, including roll-to-roll, 3D printing, and additive manufacturing.

Novel Patterning Technologies for Semiconductors, MEMS/NEMS and MOEMS 2019 se tiendra du 24 février 2019 au 28 février 2019 en San Jose, California, États-Unis. Il couvre divers domaines de Sciences de l'ingénieur, y compris 0. Pour plus d'informations, visitez le site web de la conférence ou contactez l'organisateur.
Ajouter au calendrier 2019-02-24 2019-02-28 Europe/London Novel Patterning Technologies for Semiconductors, MEMS/NEMS and MOEMS 2019 https://www.sciencedz.net/fr/conference/49041-novel-patterning-technologies-for-semiconductors-mems-nems-and-moems-2019 San Jose, California - États-Unis
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