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ALD 2019 — AVS 19th International Conference on Atomic Layer Deposition
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Organisateur :
Domaine : Physique; 0
Sciences de l'ingénieur; Mots-clé:: Technology
Description :
The AVS 19th International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2019) featuring the 6th International Atomic Layer Etching Workshop (ALE 2019) will be a three-day meeting dedicated to the science and technology of atomic layer controlled deposition of thin films and now topics related to atomic layer etching.
ALD 2019 — AVS 19th International Conference on Atomic Layer Deposition se tiendra du 21 juillet 2019 au 24 juillet 2019 en Washington, États-Unis. Il couvre divers domaines de Physique, y compris 0. Pour plus d'informations, visitez le site web de la conférence ou contactez l'organisateur.
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